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  • 主營(yíng)行業(yè): 燒結(jié)設(shè)備
  • 經(jīng)營(yíng)模式:生產(chǎn)型
  • 經(jīng)營(yíng)性質(zhì):私營(yíng)企業(yè)
  • 地區(qū):山東
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LPCVD化學(xué)相沉積設(shè)備

產(chǎn)品型號(hào):

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發(fā)布時(shí)間:2014-3-10 8:53:52

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產(chǎn)品詳情:
  用途:用于半導(dǎo)體器件工藝中氮化硅、二氧化硅、多晶硅的薄膜制備
特點(diǎn):一次設(shè)定自動(dòng)完成,可另配氣柜。真空系統(tǒng)可選配進(jìn)口機(jī)組
主要技術(shù)指標(biāo):制備3-4吋氮化硅、多晶硅和二氧化硅薄膜;溫度:400~900℃;
恒溫區(qū)600mm±0.5℃;真空系統(tǒng)機(jī)械泵+羅茨泵,配有抽氣冷井;
控溫器采用進(jìn)口5吋觸摸屏;通入氣體SIH4/NH3/N2;
進(jìn)口質(zhì)量流量計(jì)控制;閥門(mén)用進(jìn)口氣動(dòng)閥和減壓閥;動(dòng)作順序?yàn)镻LC編程控制;
薄膜壓力控制器加閥閉環(huán)控制壓強(qiáng)

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